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モリブデンディスク工場 モリブデンディスク真空コーティング モリブデンスプッターターゲットの高温耐性

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xMo純度 | 99.95% | 等級 | Mo1 / Mo2 |
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材料のグレード | Mo-1,Mo-2,TZM について | 材料 | モリブデン |
沸点 | 4,639°C | 構成 | Mo-±0.08% Zr, ±0.5% Ti, ±0.03% C |
伸縮 | <21% | 直径 | 10~100mm |
ハイライト | 高温モリブデンディスク,発射対象 モリブデンディスク,真空コーティングモリブデンディスク |
1,記述:
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材料: モリブデン 噴射 ターゲットは,高溶融点,優れた熱電導性,耐腐蝕性で知られる耐火性のある金属であるモリブデンで作られています.モリブデンは,スプートリングアプリケーションに広く使用されています..
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形状と構造:モリブデンスプッターターゲットは,通常,円形または長方形である.平坦で均質な表面を有し,一貫したスプッター性能を保証する.標的は固体またはサポートプレートに固定され,さらにサポートされることがあります..
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高純度:モリブデンスプッターターゲットは高純度で入手可能で,薄膜の質に影響を与える最小限の不純性を確保します.半導体製造におけるアプリケーションにとって高い純度が極めて重要です光学コーティングや薄膜研究
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発射性能:モリブデン発射標的は,優れた発射性能を示し,高品質の薄膜の堆積を可能にします.均質な侵食精密で一貫した薄膜厚さを得る.
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熱電伝導性:モリブデンスプッティングターゲットは高熱電伝導性があり,スプッティング過程で効率的な熱散を容易にする.これは標的の整合性を維持し,安定したスプッター性能を確保するのに役立ちます.
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耐腐蝕性:モリブデンスプッティングターゲットは,腐食に優れた耐性を有し,様々なスプッティング環境およびプロセスで使用するのに適しています.噴射中に遭遇する反応性ガスとプラズマ条件に耐える.
2仕様:
物質 的 財産 | 記述 |
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材料 | モリブデン |
純度 | 高度な純度が利用可能 |
形状 | 円形または長方形 |
溶融点 | 2623°C (4,753°F) |
密度 | 10.2 - 10.3g/cm3 |
熱伝導性 | 138 - 142 W/m·K |
電気伝導性 | 25~30% IACS (国際アニール銅標準) |
耐腐食性 | 腐食に強い |